KT1000シリーズ
熱源としてヒーターを用いた、高効率除害装置
特許取得の前後スクラバーを有し、PE-CVD工程、LP-CVD工程等の排ガス処理に最適です
KT1000MFH
省エネモードを標準装備した、高負荷粉塵対応のM型・F型融合機です
- 300mm半導体製造ラインや、液晶生産ライン等の高負荷ラインの排ガス処理に対応
- 水・電気使用量を削減する省エネモード標準装備で、更にランニングコストを低減
- 前背面の2方向低メンテナンスエリア
KT1000MFS
高負荷ガスの処理に対応したKT1000MFの進化版で省スペース・低コスト装置です
- 300mm半導体製造ラインや、液晶生産ライン等の高負荷ラインの排ガス処理に対応
- 省スペース低コストを実現し、設置しやすくお求め安い価格
- 前背面の2方向低メンテナンスエリア
KT1000EPS
高濃度H2を含むガスを、安全に処理できる装置です
- 電気ヒーターならではの安全性で、高濃度H2ガス処理に対応しました。Epi工程向け装置
- 可燃ガスの自燃エネルギーを活用して可燃ガス導入時、ヒータ電力はほぼゼロを達成
- 燃焼中断がなく流動変動に強い。入口スクラバで加水分解性・可溶性ガスを事前に除去
- TCSやDCSのように、水分と反応して固体を生成するガスも閉塞なく処理可能
- 出口スクラバで副生成ガスを除害
- フェールセーフ機構を標準搭載
KT1000MOC
MO-CVD装置で使用する大流量のNH3、H2を、電気ヒータ式高温炉で熱酸化分解装置です
- 有機金属化合物(MO)ガス、SiH4等も酸化除害
- 化石燃料等燃料ガスは一切使用しません。また、既存の方式とは全く違う画期的除害方式
- 大流量NH3, H2の反応熱エネルギーを利用していますので、処理時は、ヒータ電力を必要としません。
徹底した省エネ機構 - 高濃度のH2やNH3を安全に除害するための、フェールセーフ機構を具備
- 入口導入管に設置された温度センサーは常時入口ガス温度を監視。入口温度上昇時に、速やかに配管内を緊急希釈する逆火防止安全機構等、各種の安全機構を具備