KPL系列
利用大氣壓電漿，處理難分解性的PFC氣體。
利用穩定直流電漿的高溫，就連難分解性的PFC氣體(SF6、CF4等)也能除去。
KPL-C13
一台可以同時處理難分解性的CF4或鹵素氣體、SiH4、TEOS，及副生成的氟素系氣體。
- 只用電和水就可分解處理難分解性的CF4和鹵素氣體。
- 分解後副生成的氟素系氣體，也可用在內藏在同一台的水洗構造處理。
KPL-C13-W
對應高水解反應性、易生成粉塵的氣體(BLC3)，使用在Metal-Etch的除害設備。
- 只用電和水就可分解處理難分解性的CF4和鹵素氣體。
- 分解後副生成的氟素系氣體，也可用在內藏在同一台的水洗構造處理。