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カンケンテクノ株式会社 未来環境を創造するカンケンテクノ
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製品紹介/排ガス処理装置/KT1000シリーズ
KT1000シリーズ
熱源としてヒーターを用いた、高効率除害装置
特許取得の前後スクラバーを有し、PE-CVD工程、LP-CVD工程等の排ガス処理に最適です。
特徴
前後スクラバーにより効果的に排ガスを処理
内蔵された前段スクラバーにて、水溶性・加水分解性ガスと、粉塵等のダスト分を処理します。
また、反応器で熱分解された後には、生成する粉塵を除去すると同時に無害化した排ガスを冷却排気するための後段スクラバーが内蔵されています。
これは、特許を取得している弊社独自の構造です。
危険、有害なガスをヒーターによる熱酸化分解により高効率分解
熱酸化分解するための熱源は電気ヒーターを使用しており、安心・安全です。
燃料配管が不要なため、導入コストが低く抑えられます。
安全・コンパクト設計
本装置は異常・警報等について安全設計されており、前・後スクラバー及び反応器等、必要な機能をコンパクトにまとめました。
ランニングコストが安い
電気と水しか使用しないため、管理がしやすく、大幅にランニングコストが削減可能です。
環境にやさしい
化石燃料を用いない為、不要なCO2排出や熱エネルギーの廃棄がなく、環境にやさしい装置です。
持ち出し紛体量が少ない
除害装置出口以降の二次側配管への紛体持ち出し量が少ない。燃焼装置に比べ少なく、二次側配管のメンテナンスは不要です。
装置概要
KT1000MFH
省エネモードを標準装備した、高負荷粉塵対応のM型・F型融合機です。
300mm半導体製造ラインや、液晶生産ライン等の高負荷ラインの排ガス処理に対応。
水・電気使用量を削減する省エネモード標準装備で、更にランニングコストを低減。
前背面の2方向メンテナンスでエリア利用率をアップ。
処理装置 【 1ch対応 】 W:1050×D:1100×H:1900(mm)
【 2ch対応 】 W:1200×D:1100×H:1900(mm)
【3,4ch対応】 W:1350×D:1100×H:1900(mm)
処理装置 1200L/min(NF3含時:400L/min)
処理装置 800〜900℃
処理装置
Si2Cl2 SiH4 PH3 B2H6 TEOS etc.
及び
HF NF3
KT1000MFS
高負荷ガスの処理に対応したKT1000MFの進化版。
省スペース低コストを実現しました。
300mm半導体製造ラインや、液晶生産ライン等の高負荷ラインの排ガス処理に対応。
省スペース低コストを実現し、設置しやすくお求め安くなりました。
前背面の2方向メンテナンスでエリア利用率をアップ。
処理装置 W:900×D:900×H:1900(mm)
処理装置 800L/min(NF3含時:300L/min)
処理装置 800〜900℃
処理装置
Si2Cl2 SiH4 PH3 B2H6 TEOS etc.
及び
HF NF3
KT1000H
地球温暖化ガスであるPFCsが処理可能な装置です。
ヒーターによる1200℃高温で、難分解性のPFCsも安定・安全処理を実現。
燃料を使用しないため、CO2排出がなく、環境にやさしい。
処理装置 W:1050×D:1100×H:1900(mm)
処理装置 200L/min
処理装置 900〜1200℃
処理装置
SiH4 PH3 B2H6 TEOS etc.
及び
NF3 C2F6 C3F8 etc.
KT1000EP
高濃度H2を含むガスを、安全に処理できる装置です。
電気ヒーターならではの安全性で、高濃度H2ガス処理に対応しました。Epi工程向け装置です。
可燃ガスの自燃エネルギーを活用して可燃ガス導入時、ヒータ電力はほぼゼロを達成します。
燃焼中断がなく流動変動に強い。入口スクラバで加水分解性・可溶性ガスを事前に除去します。
TCSやDCSのように、水分と反応して固体を生成するガスも閉塞なく処理が可能です。
出口スクラバで副生成ガスを除害します。
フェールセーフ機構を標準搭載しています
処理装置 W:1200×D:1200×H:1950(mm)
処理装置 850L/min(燃焼用Air含。H2はMAX150L/min受け入れ可能)
処理装置 700〜900℃
処理装置
H2ベースのSiH4 SiH2Cl2 HCl etc.
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